磨料类型：高纯纳米氧化硅微粒
产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
我司产品优点：
1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。
2.颗粒分散均匀，不团聚，软铸铁平台适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。
3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。
4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。
5.无粉尘产生，关注环保和人体健康b2b平台。
可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。
包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)
